XUV
XUV® 系列设备的真空测量室能够通过 X 射线荧光分析 (RFA) 检测原子序数从Na（11）开始的轻元素。由于空气会吸收轻元素的荧光X射线，因此在大气环境中通常无法使用该方法。因此，该仪器非常适合对要求严苛的镀层厚度进行测量和材料分析。
特性：
检出限低、重复精度高，以及测量适用性广，因此特别适用于研究和开发使用
配备真空测量室和高性能硅漂移探测器，能够实现精确测量，尤其是对轻元素的测试
通过可编程 X、Y 和 Z 轴进行自动测试
准直器和滤波器可切换，因此可适用于各种材料和测试条件
应用：
涂层厚度测量
原子序数从Na（11）开始的轻元素镀层，可测量厚度低至纳米级
铝镀层和硅镀层
材料分析
测定宝石的真伪与原产地
常规材料分析和取证
高分辨率痕量分析
